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迈博瑞作为享誉全球的膜过滤产品供应商,是一个集研发、销售、生产于一体的美资独资企业,致力于提供过滤、分离、纯化过程中的各种产品和解决方案,生产和代理国内外多种相关产品,可为不同行业用户提供系统方案设计、成套设备制造、膜组件供应及过滤技术支持等服务

CMP过滤解决方案

 

化学机械平面化(CMP)是用于制造半导体工业晶圆的抛光工艺,是半导体器件制造工艺中的一种技术,使用化学腐蚀及机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平坦化处理。化学机械抛光解决方案改进了创建多层半导体电路的过程。其中进行化学研磨的浆料我们一般称为研磨液slurry,由于化学不稳定性和处理步骤等问题,一般在研磨液slurry中会缓慢形成凝胶和附聚物,这些形成的大颗粒被输送到晶圆的表面,会导致晶圆表面微划痕等缺陷,从而导致晶圆产量重大损失,所以CMP过滤需要在不影响抛光性能的情况下去除导致大颗粒和团聚的缺陷至关重要。其输送系统见下:

CMP slurry输送系统:

CMP slurry输送系统

CMP过滤产品

位点 迈博瑞推荐滤芯系列*
①粗过滤 MicroPure Classic 系列 PP熔喷滤芯
AquaPure 系列 线绕滤芯
PolyPure-Classic系列(PPC系列)高通量、高流速的PP折叠滤芯
②精过滤 CMPro-D系列 CMP专用高精度PP深层滤芯
CMPro-M系列 CMP专用高通量PP深层滤芯
CMPro-P系列 CMP专用聚丙烯深层折叠滤芯
③终端过滤 PoliCap终端(POU)紧凑型  CMP囊式滤芯
PoliCap-Plus终端(POU)  CMP囊式滤芯

*详细的技术解决方案和产品系列信息,请联系您身边的MS销售工程师

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