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迈博瑞作为享誉全球的膜过滤产品供应商,是一个集研发、销售、生产于一体的美资独资企业,致力于提供过滤、分离、纯化过程中的各种产品和解决方案,生产和代理国内外多种相关产品,可为不同行业用户提供系统方案设计、成套设备制造、膜组件供应及过滤技术支持等服务

光刻工艺制程过滤解决方案

 

光刻工艺是指在光线(一般是紫外光、深紫外光、极紫外光)的作用下,借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到基片上的技术,光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。其成本约为整个硅片制造工艺的1/3,耗费时间约占整个硅片工艺的40~60%。在半导体制造领域,随着半导体加工的线宽越来越小,光刻工艺对极小污染物的控制苛刻到极致,不光对颗粒严格控制,对低析出物也有着严苛的要求。迈博瑞使用先进的设备工艺,生产出的产品具有优秀的过滤效率,洁净度以及化学耐受性以应对不同的SEMI光刻工艺应用

 

光刻工艺

 

光刻工艺制程过滤产品

制程工艺 迈博瑞推荐滤芯系列*
光刻胶过滤 Photo-Novel系列 专为光刻胶,有机溶剂等工艺中的过滤滤芯
Photo-Unix系列  UPE膜滤芯

*详细的技术解决方案和产品系列信息,请联系您身边的MS销售工程师

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