光刻工艺制程过滤解决方案

光刻工艺是指在光线（一般是紫外光、深紫外光、极紫外光）的作用下，借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到基片上的技术，光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。其成本约为整个硅片制造工艺的1/3，耗费时间约占整个硅片工艺的40～60%。在半导体制造领域，随着半导体加工的线宽越来越小，光刻工艺对极小污染物的控制苛刻到极致，不光对颗粒严格控制，对低析出物也有着严苛的要求。迈博瑞使用先进的设备工艺，生产出的产品具有优秀的过滤效率，洁净度以及化学耐受性以应对不同的SEMI光刻工艺应用

光刻工艺制程过滤产品

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